在八十年代之前，光刻机都是接触接近式光刻机、扫描投影式光刻机等这些迭代技术，而八十年代之后，就有了进式扫描投影光刻机。

        当时是由a**l在一九八六年首先推出的一台光刻机。

        采用193nmarf激光光源，实现了光刻过程中，掩模和硅片的同步移动，并且采用了缩小投影镜头，缩小比例达到5：1，有效提升了掩模的使用效率和曝光精度，将芯片的制程和生产效率提升了一个台阶。

        参照现在的路由器芯片、超级电脑芯片等，那么以前的光刻机就只能被淘汰了。

        拥抱新的光刻机技术，并非简单。

        因为造一台193nmarf激光光源的光刻机，并没有那么简单。

        其次，就算造出来这样一台光刻机，想要使用也不是那么简单的，因为能耗实在太大了。

        很耗电！

        光刻机开机之后，到完成整个芯片制造过程，由于不停地反射，调整角度，最后到底晶圆片上面的光，消耗大量的电。

        还有就是这个过程中，会产生很多热量，又需要散热手段，这又消耗不菲的能量。

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